1.半導(dǎo)體離子束刻蝕機(jī)的組成

離子束刻蝕機(jī)由真空室、工作臺、快門、真空抽氣系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、電源和? 電器系統(tǒng)等主要部分組成。該機(jī)在正常工作時(shí),首先將真空室的壓力抽至2×10-3Pa或更低,再調(diào)節(jié)Ar氣流量,使真空室壓力保持? 在1×10-2~2×10-2Pa(如需要輔助氣體,如O2、CH2等,則可按一定比例與之混合),? 然后啟動(dòng)離子源各電源,使離子源正常工作,從離子源引出一定能量和密度的離子束被中和器發(fā)射的電子中和后,轟擊工件進(jìn)行濺射刻蝕。工件表面必須預(yù)先制備溝槽的掩膜圖形。這樣裸露部分被刻蝕掉,掩蔽部分被保留下來,從而在工件表面形成所需要的溝槽圖形。

2.真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)有兩套，分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體。預(yù)真空室由機(jī)械泵單獨(dú)抽真空，只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時(shí)，才能打開隔離門，進(jìn)行傳送片?？涛g腔體的真空由機(jī)械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空。

離子刻蝕機(jī)真空泵-阿特拉斯真空泵

型號：單級旋片泵GVS系列，

技術(shù)參數(shù)：

主要特點(diǎn):
1.半導(dǎo)體工業(yè)用真空泵和系統(tǒng).
2.科研儀器,真空加工用途真空泵和系統(tǒng).
3.排氣控制.污水處理系統(tǒng),氣體處理系統(tǒng).
4.油封旋片泵.
產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域：PCB板業(yè)，半導(dǎo)體行業(yè)，CCL行業(yè)，SMT行業(yè)，光電機(jī)械，化工行業(yè)等。

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